Some voltammetric observation in connection with electrochemical fluorinatlon

Abstract

Fluorination of the disc Ni anode in the HF solution has been carried out by means of the voltammetric method. It has been stated that a layer of Ni oxide is produced on the surface of the electrode as the result of water trace presence in the HF. The produced oxide layer influences electrochemical reaction of fluorination to a great extent.

Metodą woltamperometryczną przeprowadzono fluorowanie dyskowej anody niklowej w środowisku ciekłego HF. Stwierdzono, że na powierzchni elektrody tworzy się warstwa tlenku niklu na skutek obecności śladów wody w kwasie fluorowodorowym. Wytworzona warstwa tlenkowa silnie wpływa na elektrochemiczną reakcję fluorowania.